何少龙研究员长期从事半导体材料的生长制备及物性研究，推动半导体领域CVD-SiC涂层技术的产业化，实现LED芯片外延托盘国产化替代 。2005年浙浙江大学博士毕业，2005-2008年日本广岛大学讲师、国立材料研究所博士研究员，从事先进材料研究。2018年创立浙江六方科技半导体有限公司，相关产品达到国内前列，国际一流水平，具有丰富的产业化经验 。获浙江省“万人计划”领军人才，宁波市领军人才，绍兴市 " 海外英才计划 " 等荣誉称号。

迄今在国际顶级学术期刊，Nature Materials, Nature Communications，Phys. Rev. Lett.，PNAS等国际期刊上发表了30多篇论文，综述性论文2篇，单篇引用超过800多次，文章总引用超过2000次，被邀请在美国March Meeting，日本半导体年会，香山会议等国内、国际重要学术会议作邀请报告。已主持国家自然科学基金委联合基金重点项目1项、面上项目5项，浙江省尖兵领雁计划，浙江省自然科学基金重点项目，宁波市2025重大专项子课题等。